談設計專利圖式之明確且充分揭露
講座系列
專利科技法系列
講座進程
已開課
講座日期
2024-10-08
講座地點
理律文教基金會
單位與講者
- ．主辦單位：財團法人理律文教基金會
- ．主講人：
- 紀畊宇
- 專利師
講座介紹
設計專利圖式的充分揭露是設計專利申請過程中的關鍵議題，申請人須透過清晰且充分的圖式揭露以展示所主張的設計，確保專利審查員及公眾能夠準確理解設計的視覺特徵。本課程講解設計專利圖式的揭露標準與要求，並介紹多種在設計專利實務中可利用的揭露方式，包括六面視圖、輔助視圖及局部放大圖等，期有助申請人有效且合規地揭露所要主張的設計，從而確保設計專利申請的完整性及保護範圍的確定性。
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